Polycristalline silicon deposited on glass by sub-atmospheric-pressure CVD at high rate - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Philosophical Magazine B Année : 2002
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00934156 , version 1 (21-01-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00934156 , version 1

Citer

P. Münster, Michel Sarret, Tayeb Mohammed-Brahim, Nathalie . Coulon, J.-Y. Mevellec. Polycristalline silicon deposited on glass by sub-atmospheric-pressure CVD at high rate. Philosophical Magazine B, 2002. ⟨hal-00934156⟩
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