Article Dans Une Revue
Thin Solid Films
Année : 2008
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https://hal.science/hal-00915445
Soumis le : samedi 7 décembre 2013-19:46:03
Dernière modification le : vendredi 21 novembre 2025-14:50:02
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00915445 , version 1
Citer
P. Roca I Cabarrocas, Pavel Bulkin, D. Daineka, T. H. Dao, P. Leempoel, et al.. Advances in the deposition of microcrystalline silicon at high rate by distributed electron cyclotron resonance. Thin Solid Films, 2008, pp.6834-6838. ⟨hal-00915445⟩
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