Advances in the deposition of microcrystalline silicon at high rate by distributed electron cyclotron resonance - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2008

Advances in the deposition of microcrystalline silicon at high rate by distributed electron cyclotron resonance

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Sciences de l'ingénieur [physics]

Pavel Bulkin  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00915445

Soumis le : samedi 7 décembre 2013-19:46:03

Dernière modification le : jeudi 1 août 2024-13:48:05

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Dates et versions

hal-00915445 , version 1 (07-12-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00915445 , version 1

Citer

P. Roca I Cabarrocas, Pavel Bulkin, D. Daineka, T. H. Dao, P. Leempoel, et al.. Advances in the deposition of microcrystalline silicon at high rate by distributed electron cyclotron resonance. Thin Solid Films, 2008, pp.6834-6838. ⟨hal-00915445⟩

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