Electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapour deposition and optical properties of SiOx thin films - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Non-Crystalline Solids Année : 1998

Electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapour deposition and optical properties of SiOx thin films

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00915367 , version 1 (07-12-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00915367 , version 1

Citer

Pavel Bulkin, P. L. Swart, B. M. Lacquet. Electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapour deposition and optical properties of SiOx thin films. Journal of Non-Crystalline Solids, 1998, pp.58-66. ⟨hal-00915367⟩
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