High density plasma enhanced chemical vapor deposition of optical thin films - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue European Physical Journal: Applied Physics Année : 2004
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00914155 , version 1 (04-12-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00914155 , version 1

Citer

D. Daineka, Pavel Bulkin, Gabriel Girard, J.E. Bouree, Bernard Drévillon. High density plasma enhanced chemical vapor deposition of optical thin films. European Physical Journal: Applied Physics, 2004, pp.3-9. ⟨hal-00914155⟩
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