Article Dans Une Revue
Journal of Applied Physics
Année : 2013
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https://hal.science/hal-00904412
Soumis le : jeudi 14 novembre 2013-14:28:13
Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-10:08:35
Citer
M. Brihoum, R. Ramos, K. Menguelti, G. Cunge, E. Pargon, et al.. Revisiting the mechanisms involved in Line Width Roughness smoothing of 193 nm photoresist patterns during HBr plasma treatment. Journal of Applied Physics, 2013, 113, pp.013302. ⟨10.1063/1.4773068⟩. ⟨hal-00904412⟩
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