Top-Gate Micro-crystalline silicon TFTs processed at low temperature (<200°C) - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2004
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00870760 , version 1 (08-10-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00870760 , version 1

Citer

Amar Saboundji, Nathalie . Coulon, A. Gorin, Hervé Lhermite, Tayeb Mohammed-Brahim, et al.. Top-Gate Micro-crystalline silicon TFTs processed at low temperature (<200°C). POLYSE 2004, Sep 2004, Postdam, Germany. ⟨hal-00870760⟩
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