Formation of black silicon by cryogenic plasma etching processes - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2012
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00831357 , version 1 (06-06-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00831357 , version 1

Citer

Thomas Tillocher, Jérémy Pereira, Nasreddine Mekkakia Maaza, Philippe Lefaucheux, Pierre Ranson, et al.. Formation of black silicon by cryogenic plasma etching processes. Micro- and Nano-Engineering (MNE), Sep 2012, Toulouse, France. ⟨hal-00831357⟩
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