Applications of cryogenic plasma etching for microtechnology and advanced CMOS manufacturing - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2013
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00831344 , version 1 (06-06-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00831344 , version 1

Citer

Remi Dussart, Philippe Lefaucheux, Thomas Tillocher, Pierre Ranson, Mohamed Boufnichel, et al.. Applications of cryogenic plasma etching for microtechnology and advanced CMOS manufacturing. Plasma Etch and Strip in Microtechnology, Mar 2013, Louvain, Belgium. ⟨hal-00831344⟩
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