Communication Dans Un Congrès
Année : 2013
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https://hal.science/hal-00819685
Soumis le : jeudi 2 mai 2013-09:41:50
Dernière modification le : samedi 25 mai 2024-03:23:16
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00819685 , version 1
Citer
Pierre Capiod, Maxime Berthe, Andrea Resta, Paola de Padova, Patrick Vogt, et al.. Sheet resistance of multi-layer stacking of silicene. European Materials Research Society Spring Meeting, E-MRS Spring 2013, Symposium I - The route to post-Si CMOS devices : from high mobility channels to graphene-like 2D nanosheets, 2013, Strasbourg, France. ⟨hal-00819685⟩
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