Plasma Etching for Back End Of Line Applications - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2012

Plasma Etching for Back End Of Line Applications

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00808862 , version 1 (07-04-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00808862 , version 1

Citer

Maxime Darnon, T. Chevolleau, T. David, N. Posseme, R. Bouyssou, et al.. Plasma Etching for Back End Of Line Applications. China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC), Mar 2012, Shanghaï, China. ⟨hal-00808862⟩
135 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More