Investigation of synchronized pulsed plasmas for highly selective etching of Si3N4 spacers
R. Blanc
(1)
,
F. Leverd
(2)
,
Maxime Darnon
(1)
,
S. David
(1)
,
T. David
(3)
,
S. Banna
,
O. Joubert
(1)
Maxime Darnon
- Fonction : Auteur
- PersonId : 17906
- IdHAL : maxime-darnon
- ORCID : 0000-0002-6188-7157
- IdRef : 124051758
S. David
- Fonction : Auteur
- PersonId : 742757
- IdHAL : sylvain-david-in2p3
S. Banna
- Fonction : Auteur