Investigation of synchronized pulsed plasmas for highly selective etching of Si3N4 spacers - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2012
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00808854 , version 1 (07-04-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00808854 , version 1

Citer

R. Blanc, F. Leverd, Maxime Darnon, S. David, T. David, et al.. Investigation of synchronized pulsed plasmas for highly selective etching of Si3N4 spacers. Pacific Rim Meeting of the Electrochemical and Solid State Society (PRiME), 2012, Hawai, United States. ⟨hal-00808854⟩
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