On the origin of the line width roughness of photoresist patterns after plasma exposure
R. Ramos
(1)
,
M. Brihoum
(1)
,
K. Menguelti
(1)
,
L. Azarnouche
(1)
,
M. Fouchier
(1)
,
E. Pargon
(1)
,
G. Cunge
(1)
,
O. Joubert
(1)
R. Ramos
- Fonction : Auteur
- PersonId : 854590
- IdHAL : raphramos
- ORCID : 0000-0003-0627-6959
E. Pargon
- Fonction : Auteur
- PersonId : 180469
- IdHAL : erwine-pargon
- ORCID : 0000-0002-6337-9180