Capillary jet injection of SiH4 in the high density plasma chemical vapor deposition of SiO2 - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science & Technology A Année : 2009

Capillary jet injection of SiH4 in the high density plasma chemical vapor deposition of SiO2

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00789245 , version 1 (17-02-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00789245 , version 1

Citer

Roelene Botha, Tatiana Novikova, Pavel Bulkin. Capillary jet injection of SiH4 in the high density plasma chemical vapor deposition of SiO2. Journal of Vacuum Science & Technology A, 2009, 27 (4), pp.849. ⟨hal-00789245⟩
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