Article Dans Une Revue
Journal of Vacuum Science & Technology A
Année : 2009
Tatiana Novikova : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00789245
Soumis le : dimanche 17 février 2013-16:56:21
Dernière modification le : mardi 23 janvier 2024-13:35:22
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00789245 , version 1
Citer
Roelene Botha, Tatiana Novikova, Pavel Bulkin. Capillary jet injection of SiH4 in the high density plasma chemical vapor deposition of SiO2. Journal of Vacuum Science & Technology A, 2009, 27 (4), pp.849. ⟨hal-00789245⟩
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