Article Dans Une Revue
Journal of Physics D: Applied Physics
Année : 2012
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00778008
Soumis le : vendredi 18 janvier 2013-15:11:42
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:30:02
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00778008 , version 1
Citer
J.H. Choi, L. Latu-Romain, Edwige Bano, F. Dhalluin, T. Chevolleau, et al.. Fabrication of SiC nanopillars by inductively coupled SF6/O2 plasma etching. Journal of Physics D: Applied Physics, 2012, pp.45 - 235204. ⟨hal-00778008⟩
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