Article Dans Une Revue
Journal of Vacuum Science and Technology
Année : 2012
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https://hal.science/hal-00777317
Soumis le : jeudi 17 janvier 2013-12:39:03
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:42:13
Citer
C. Petit-Etienne, E. Pargon, S. David, Maxime Darnon, L. Vallier, et al.. Silicon recess minimization during gate patterning using synchronous plasma pulsing. Journal of Vacuum Science and Technology, 2012, pp.B 30, 040604. ⟨10.1116/1.4737125⟩. ⟨hal-00777317⟩
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