Nanocrystalline top-gate thin film transistors deposited at low temperature by Hot-Wire CVD on glass - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2005
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00776106 , version 1 (15-01-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00776106 , version 1

Citer

M. Fonrodona, J. Escarré, F. Villar, D. Soler, J. Bertomeu, et al.. Nanocrystalline top-gate thin film transistors deposited at low temperature by Hot-Wire CVD on glass. Electronic Devices Conference, Feb 2005, Tarragona, Spain. ⟨hal-00776106⟩
36 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More