Top-gate microcrystalline silicon TFTs processed at low temperature (<200°c) - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2005
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00772969 , version 1 (11-01-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00772969 , version 1

Citer

Amar Saboundji, Nathalie . Coulon, A. Gorin, Hervé Lhermite, Tayeb Mohammed-Brahim, et al.. Top-gate microcrystalline silicon TFTs processed at low temperature (<200°c). Thin Solid Films, 2005, 487, pp.227-231. ⟨hal-00772969⟩
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