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Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2013

Stress tuning in sputter-deposited MoOx films

Etienne Barthel
Sergey Y. Grachev
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 933490

Résumé

The evolution of the compressive stress in Mo/MoOx sputter-deposited thin films has been followed in situ during deposition as a function of two parameters: the oxygen flux and the negative voltage bias applied to the substrate. In addition the microstructure of the films has been characterized. Oxygen accumulation at the interface was observed. We describe the origins of the stress in terms of ion bombardment and oxygen incorporation.
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Dates et versions

hal-00759953 , version 1 (03-12-2012)

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Citer

Jean-Yvon Faou, Etienne Barthel, Sergey Y. Grachev. Stress tuning in sputter-deposited MoOx films. Thin Solid Films, 2013, 527, pp.222-226. ⟨10.1016/j.tsf.2012.11.053⟩. ⟨hal-00759953⟩
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