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Communication Dans Un Congrès Année : 2012

Modeling of boron diffusion in silicon: Influence of precipitation

H. Wang
  • Fonction : Auteur
T. Philippe
  • Fonction : Auteur
J. Marcon
S. Duguay
D. Blavette
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00743292 , version 1 (18-10-2012)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00743292 , version 1

Citer

H. Wang, T. Philippe, J. Marcon, S. Duguay, D. Mathiot, et al.. Modeling of boron diffusion in silicon: Influence of precipitation. European Material Research Society (E-MRS) Spring Conference, Symposium on Advanced Silicon Materials Research for Electronic and Photovoltaic Applications III, May 2012, Strasbourg, France. ⟨hal-00743292⟩

Collections

CNRS
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