Lanthanum titanium oxide and oxynitride thin films grown by water vapour and nitrogen reactive RF sputtering
Yu Lu
(1)
,
Claire Le Paven-Thivet
(1)
,
Ratiba Benzerga
(1)
,
Laurent Le Gendre
(2)
,
Viet Hung Nguyen
(1, 3)
,
Ala Sharaiha
(2)
,
Franck Tessier
(4)
,
François Cheviré
(4)
,
Christophe Delaveaud
(3)
1
IETR -
Institut d'Electronique et de Télécommunications de Rennes
2 IETR - Institut d'Électronique et des Technologies du numéRique
3 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
4 ISCR - Institut des Sciences Chimiques de Rennes
2 IETR - Institut d'Électronique et des Technologies du numéRique
3 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
4 ISCR - Institut des Sciences Chimiques de Rennes
Ratiba Benzerga
- Fonction : Auteur
- PersonId : 835208
- ORCID : 0000-0002-5755-0041
Laurent Le Gendre
- Fonction : Auteur
- PersonId : 834293
Franck Tessier
- Fonction : Auteur
- PersonId : 9235
- IdHAL : franck-tessier
- ORCID : 0000-0002-1253-7011
- IdRef : 082987459
François Cheviré
- Fonction : Auteur
- PersonId : 5145
- IdHAL : francois-chevire
- ORCID : 0000-0002-5605-6113
- IdRef : 082987386
Christophe Delaveaud
- Fonction : Auteur
- PersonId : 844433