STiGer process for silicon deep etching: extended scalloping reduction on submicron trenches - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2011
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00696422 , version 1 (11-05-2012)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00696422 , version 1

Citer

Wassim Kafrouni, Thomas Tillocher, Julien Ladroue, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, et al.. STiGer process for silicon deep etching: extended scalloping reduction on submicron trenches. 18th International Colloquium on Plasma Processes (CIP), Jul 2011, Nantes, France. ⟨hal-00696422⟩
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