Optimization of STiGer process for silicon deep etching - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2010
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00696366 , version 1 (11-05-2012)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00696366 , version 1

Citer

Thomas Tillocher, Wassim Kafrouni, Vincent Girault, Julien Ladroue, Philippe Lefaucheux, et al.. Optimization of STiGer process for silicon deep etching. 63rd Gaseous Electronics Conference, Oct 2010, Paris, France. ⟨hal-00696366⟩
41 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More