Aluminum nitride homoepitaxial growth on polar and non-polar AlN PVT substrates by high temperature CVD (HTCVD).
A. Claudel
(1)
,
Y. Chowanek
,
E. Blanquet
(2)
,
D. Chaussende
(3)
,
R. Boichot
(2)
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Alexandre Crisci
(2)
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G. Berthomé
(2)
,
H. Mank
(4)
,
S. Luca
(5)
,
D. Pique
(1)
,
M. Pons
(2)
Y. Chowanek
- Fonction : Auteur
E. Blanquet
- Fonction : Auteur
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D. Chaussende
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M. Pons
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