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Communication Dans Un Congrès Année : 2011

Étude d'un filtre volumique SIW en technologie LTCC sur un substrat de forte permittivité en bande X

Résumé

La technologie SIW apporte un gain en terme de facteur de qualité par rapport aux technologies planaires. Sa facilité d'intégration avec ces dernières, ainsi que son coût de production sont autant d'atouts qui la rendent attractive. Son encombrement reste en revanche l'un de ses principal défaut. Ce document présente ici la combinaison de deux solutions pour y remédier : L'utilisation d'une technologie multicouche pour empiler les cavités et réduire ainsi l'empreinte. L'utilisation d'un substrat de haute permittivité afin de réduire les dimensions selon les 3 axes. Ces solutions sont testées ici sur un filtre d'ordre 6 en bande X.
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Dates et versions

hal-00669552 , version 1 (13-02-2012)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00669552 , version 1

Citer

Jonathan Garreau, Benjamin Potelon, Eric Rius, Jean-François Favennec, Cédric Quendo, et al.. Étude d'un filtre volumique SIW en technologie LTCC sur un substrat de forte permittivité en bande X. 17èmes Journées Nationales Microondes, May 2011, Brest, France. pp.4F-9. ⟨hal-00669552⟩
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