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Communication Dans Un Congrès Année : 2011

Etch processes with pulsed plasmas for advanced CMOS technologies

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00647643 , version 1 (02-12-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00647643 , version 1

Citer

Maxime Darnon, P. Bodart, M. Haass, C. Petit-Etienne, M. Brihoum, et al.. Etch processes with pulsed plasmas for advanced CMOS technologies. 3rd International Conference on Microelectronics and Plasma Technology, Jul 2011, Dalian, China. ⟨hal-00647643⟩
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