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Communication Dans Un Congrès Année : 2011

Improving Etch Processes by Using Pulsed Plasmas

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00647630 , version 1 (02-12-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00647630 , version 1

Citer

Maxime Darnon, M. Haass, P. Bodart, G. Cunge, C. Petit-Etienne, et al.. Improving Etch Processes by Using Pulsed Plasmas. AVS 58h international symposium, Oct 2011, Nashville, United States. ⟨hal-00647630⟩
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