Time-Modulation of High density Plasmas for Advanced Dry Etching Processes - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2011

Time-Modulation of High density Plasmas for Advanced Dry Etching Processes

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00647608 , version 1 (02-12-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00647608 , version 1

Citer

S. Banna, A. Agarwal, T. Lill, Maxime Darnon, G. Cunge, et al.. Time-Modulation of High density Plasmas for Advanced Dry Etching Processes. 4th Plasma Etch and Strip in Microelectronics Workshop, May 2011, Mechelen, Belgium. ⟨hal-00647608⟩
73 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More