HfO2 etching by pulsed BCl3/Ar plasma - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2011
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00641438 , version 1 (15-11-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00641438 , version 1

Citer

P. Bodart, C. Petit-Etienne, G. Cunge, F. Boulard, L. Vallier, et al.. HfO2 etching by pulsed BCl3/Ar plasma. 4th PESM workshop, May 2011, Belgium. ⟨hal-00641438⟩
80 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More