Challenges and future prospects in plasma etching processes
O. Joubert
(1)
,
E. Pargon
(1)
,
G. Cunge
(1)
,
Maxime Darnon
(1)
,
L. Vallier
(1)
,
T. Chevolleau
(1)
,
T. David
(2, 1)
,
L. Azarnouche
(1)
,
M. Haass
(1)
,
P. Bodart
(1)
,
R. Ramos
(1)
,
C. Petit-Etienne
(1)
,
O. Luere
(1)
,
F. Boulard
(1)
,
T. Lill
,
S. Banna
E. Pargon
- Fonction : Auteur
- PersonId : 180469
- IdHAL : erwine-pargon
- ORCID : 0000-0002-6337-9180
Maxime Darnon
- Fonction : Auteur
- PersonId : 17906
- IdHAL : maxime-darnon
- ORCID : 0000-0002-6188-7157
- IdRef : 124051758
R. Ramos
- Fonction : Auteur
- PersonId : 854590
- IdHAL : raphramos
- ORCID : 0000-0003-0627-6959
C. Petit-Etienne
- Fonction : Auteur
- PersonId : 745766
- IdHAL : camille-petit-etienne
T. Lill
- Fonction : Auteur
S. Banna
- Fonction : Auteur