Communication Dans Un Congrès Année : 2010

Challenges and future prospects in plasma etching processes

T. Lill
  • Fonction : Auteur
S. Banna
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00625378 , version 1 (21-09-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00625378 , version 1

Citer

O. Joubert, E. Pargon, G. Cunge, Maxime Darnon, L. Vallier, et al.. Challenges and future prospects in plasma etching processes. 3rd International Conference on PLAsma NanoTechnology and Science, Mar 2010, Nagoya,, Japan. ⟨hal-00625378⟩
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