Communication Dans Un Congrès
Année : 2010
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00625371
Soumis le : mercredi 21 septembre 2011-14:15:30
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:52:14
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00625371 , version 1
Citer
S. Engelmann, S. Purushothaman, T.J. Frot, Maxime Darnon, M. Lofaro, et al.. Challenges in sub-100 nm Dual Damascene Etch of Porous Oxycarbosilane Ultra Low-k Dielectrics for BEOL Integration. AVS 57th international symposium, Oct 2010, Albuquerque, United States. ⟨hal-00625371⟩
43
Consultations
0
Téléchargements