Characterizing Plasma Induced Damage to Ultra Low-k - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2011

Characterizing Plasma Induced Damage to Ultra Low-k

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00625356 , version 1 (21-09-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00625356 , version 1

Citer

Maxime Darnon, T. Chevolleau, T. David, N. Posseme, R. Bouyssou, et al.. Characterizing Plasma Induced Damage to Ultra Low-k. China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC), Mar 2011, Shanghaï, China. ⟨hal-00625356⟩
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