Residue growth on metallic hard mask after dielectric etching in fluorocarbon based plasmas. II. Solutions
N. Posseme
,
R. Bouyssou
,
T. Chevolleau
(1)
,
T. David
(1, 2)
,
V. Arnal
,
Maxime Darnon
(1)
,
Ph. Brun
,
C. Verove
,
O. Joubert
(1)
N. Posseme
- Fonction : Auteur
R. Bouyssou
- Fonction : Auteur
V. Arnal
- Fonction : Auteur
Maxime Darnon
- Fonction : Auteur
- PersonId : 17906
- IdHAL : maxime-darnon
- ORCID : 0000-0002-6188-7157
- IdRef : 124051758
Ph. Brun
- Fonction : Auteur
C. Verove
- Fonction : Auteur