Oxyde thin films deposited by PLD and magnetron sputtering for fuel cell technology - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2011
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00613857 , version 1 (07-08-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00613857 , version 1

Citer

Hervé Hidalgo, Anne-Lise Thomann, Eric Millon, Pascal Brault, K. Wittman-Teneze, et al.. Oxyde thin films deposited by PLD and magnetron sputtering for fuel cell technology. CIP 2011, Jul 2011, NANTES, France. http://vide.org/cip2011/fileadmin/document/CIP_11_program_poster.pdf. ⟨hal-00613857⟩
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