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Communication Dans Un Congrès Année : 2011

Nanoindentation and contact resonant AFM applied to tailored ULK porous films.

Domaines

Matériaux
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00610224 , version 1 (21-07-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00610224 , version 1

Citer

M. Verdier. Nanoindentation and contact resonant AFM applied to tailored ULK porous films.. IEEE International Interconnect Technology Conf.-IITC / Materials for Advanced Metallization-MAM, May 2011, DRESDE, Germany. ⟨hal-00610224⟩
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