On the cracks formation in AlN films grown by chlorinated High Temperature Chemical Vapor Deposition. - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2010
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00610213 , version 1 (21-07-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00610213 , version 1

Citer

E. Latu-Romain, A. Claudel, Alexandre Crisci, E. Blanquet, Michel Mermoux, et al.. On the cracks formation in AlN films grown by chlorinated High Temperature Chemical Vapor Deposition.. IWN 2010, Sep 2010, TAMPA, United States. ⟨hal-00610213⟩
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