Experimental Analysis of Surface Roughness Scattering in FinFET - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2010
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00604290 , version 1 (28-06-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00604290 , version 1

Citer

J. W. Lee, D. Jang, M. Mouis, G. T. Kim, T. Chiarella, et al.. Experimental Analysis of Surface Roughness Scattering in FinFET. 40th European Solid-State Device Research Conference,, Sep 2010, Sevilla, Spain. pp.305-308. ⟨hal-00604290⟩
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