Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 2011

Atomic scale evidence of the suppression of boron clustering in implanted silicon by carbon coimplantation

T. Philippe
  • Fonction : Auteur
S. Duguay
D. Blavette
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00597120 , version 1 (31-05-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00597120 , version 1

Citer

T. Philippe, S. Duguay, D. Mathiot, D. Blavette. Atomic scale evidence of the suppression of boron clustering in implanted silicon by carbon coimplantation. Journal of Applied Physics, 2011, 109, pp. 023501_1-4. ⟨hal-00597120⟩
78 Consultations
0 Téléchargements

Partager

  • More