Direct writing of inorganic nanostructures by 193nm lithography on sol-gel thin films - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2011

Direct writing of inorganic nanostructures by 193nm lithography on sol-gel thin films

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00579300 , version 1 (23-03-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00579300 , version 1

Citer

Hassam Ridaoui, Fabrice Stehlin, Fernand Wieder, Arnaud Ponche, Olivier Soppera. Direct writing of inorganic nanostructures by 193nm lithography on sol-gel thin films. Hybrid Materials 2011, Mar 2011, STRASBOURG, France. ⟨hal-00579300⟩
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