The effect of CO2 laser annealing on residual stress and on laser damage resistance for fused silica optics - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2010
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00561212 , version 1 (31-01-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00561212 , version 1

Citer

Philippe Cormont, Laurent Gallais, Laurent Lamaignère, Thierry Donval, Jean-Luc Rullier. The effect of CO2 laser annealing on residual stress and on laser damage resistance for fused silica optics. Laser-Induced Damage in Optical Materials: 2010, 2010, Boulder, United States. pp.78422C. ⟨hal-00561212⟩
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