Optimization of SiNX:H films deposited by PECVD for reliability of electronic, microsystems and optical applications

E. Herth; Bernard Legrand; L. Buchaillot; N. Rolland; T. Lasri

doi:10.1016/j.microrel.2010.04.011

Article Dans Une Revue Microelectronics Reliability Année : 2010

Optimization of SiNX:H films deposited by PECVD for reliability of electronic, microsystems and optical applications

, , , , (1)

1

E. Herth

Fonction : Auteur

Bernard Legrand

Fonction : Auteur
PersonId : 4144
IdHAL : bernard-legrand
ORCID : 0000-0001-5158-3654
IdRef : 137439423

CV

L. Buchaillot

Fonction : Auteur
PersonId : 180198
IdHAL : lionel-buchaillot
ORCID : 0000-0002-9844-0498
IdRef : 060779136

N. Rolland

Fonction : Auteur
PersonId : 749625
IdHAL : nathalie-rolland

T. Lasri

Fonction : Auteur
PersonId : 751883
IdHAL : tuami-lasri

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520

Collection IEMN : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00549491

Soumis le : mercredi 22 décembre 2010-09:54:15

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

Dates et versions

hal-00549491 , version 1 (22-12-2010)

Identifiants

HAL Id : hal-00549491 , version 1
DOI : 10.1016/j.microrel.2010.04.011

Citer

E. Herth, Bernard Legrand, L. Buchaillot, N. Rolland, T. Lasri. Optimization of SiNX:H films deposited by PECVD for reliability of electronic, microsystems and optical applications. Microelectronics Reliability, 2010, 50, pp.1103-1106. ⟨10.1016/j.microrel.2010.04.011⟩. ⟨hal-00549491⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CNRS UNIV-VALENCIENNES IEMN UNIV-LILLE

40 Consultations

0 Téléchargements

Optimization of SiNX:H films deposited by PECVD for reliability of electronic, microsystems and optical applications

Dates et versions

Identifiants

Citer

Exporter

Collections

Altmetric

Partager