Article Dans Une Revue
Microelectronic Engineering
Année : 2011
Caroline Vigreux : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00524673
Soumis le : vendredi 8 octobre 2010-14:53:48
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13
Citer
Caroline Vigreux, Séverine de Sousa, Véronique Foucan, Eléonore Barthélémy, Annie Pradel. Deep reactive etching ion etching of thermally co-evaporated Te-Ge films for IR integrated optics components. Microelectronic Engineering, 2011, 88, pp.222. ⟨10.1016/j.mee.2010.10.008⟩. ⟨hal-00524673⟩
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