Low temperature deposition of microcrystalline silicon germanium Si1-xGex by RF-PECVD - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue physica status solidi (c) Année : 2010

Dates et versions

hal-00506597 , version 1 (28-07-2010)

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Citer

Abdelkrim Fedala, Claude Simon, Nathalie . Coulon, Tayeb Mohammed-Brahim, M. Abdeslam, et al.. Low temperature deposition of microcrystalline silicon germanium Si1-xGex by RF-PECVD. physica status solidi (c), 2010, 7 (3-4), pp.762-765. ⟨10.1002/pssc.200982791⟩. ⟨hal-00506597⟩
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