Article Dans Une Revue
physica status solidi (c)
Année : 2010
Yolande Sambin : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00506597
Soumis le : mercredi 28 juillet 2010-13:27:20
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:53
Citer
Abdelkrim Fedala, Claude Simon, Nathalie . Coulon, Tayeb Mohammed-Brahim, M. Abdeslam, et al.. Low temperature deposition of microcrystalline silicon germanium Si1-xGex by RF-PECVD. physica status solidi (c), 2010, 7 (3-4), pp.762-765. ⟨10.1002/pssc.200982791⟩. ⟨hal-00506597⟩
Collections
48
Consultations
0
Téléchargements