Growth and characterisation of CaCu2Ox thin films by pulsed injection MOCVD - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2008

Growth and characterisation of CaCu2Ox thin films by pulsed injection MOCVD

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Soline Boyer  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00492034

Soumis le : lundi 14 juin 2010-22:03:00

Dernière modification le : lundi 16 septembre 2024-17:52:04

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Dates et versions

hal-00492034 , version 1 (14-06-2010)

Identifiants

Citer

K. Galicka-Fau, Corinne Legros, M. Andrieux, M. Herbst-Ghysel, I. Gallet, et al.. Growth and characterisation of CaCu2Ox thin films by pulsed injection MOCVD. EMRS 2007 Fall Meeting Symposium H: Current trends in optical and x-ray metrology of advanced materials and devices II Warsaw, Poland, Sep 2007, Poland. pp.7967, ⟨10.1016/j.tsf.2008.04.005⟩. ⟨hal-00492034⟩

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