Plasma Polymerized methylsilane III: process optimisation for 193 nm lithography applications - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science and Technology Année : 2000

Plasma Polymerized methylsilane III: process optimisation for 193 nm lithography applications

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00488360 , version 1 (01-06-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00488360 , version 1

Citer

O. Joubert, D. Fuard, C. Monget, T. Weidman. Plasma Polymerized methylsilane III: process optimisation for 193 nm lithography applications. Journal of Vacuum Science and Technology, 2000, pp.B18(2), 793. ⟨hal-00488360⟩
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