Article Dans Une Revue
Journal of Vacuum Science and Technology
Année : 2000
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https://hal.science/hal-00488360
Soumis le : mardi 1 juin 2010-18:20:32
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:09:22
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00488360 , version 1
Citer
O. Joubert, D. Fuard, C. Monget, T. Weidman. Plasma Polymerized methylsilane III: process optimisation for 193 nm lithography applications. Journal of Vacuum Science and Technology, 2000, pp.B18(2), 793. ⟨hal-00488360⟩
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