Communication Dans Un Congrès
Année : 2010
Remi Dussart : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00487363
Soumis le : vendredi 28 mai 2010-18:04:25
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:53
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00487363 , version 1
Citer
Julien Ladroue, Mohamed Boufnichel, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Pierre Ranson, et al.. Deep GaN Etching by Inductively Coupled Plasma. 3RD WORKSHOP ON PLASMA ETCH AND STRIP IN MICROELECTRONICS, Mar 2010, France. ⟨hal-00487363⟩
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