Communication Dans Un Congrès
Année : 2002
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00486306
Soumis le : mardi 25 mai 2010-15:09:15
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:16:25
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00486306 , version 1
Citer
G. Cunge, M. Kogelschatz, N. Sadeghi, L. Vallier, O. Joubert. Plasma-wall interaction studies during gate etch processes. AVS, 49th International AVS Symposium & Topical Conferences, 2002, Denver, United States. ⟨hal-00486306⟩
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