Silicate interface formation during the deposition of Y2O3 on Si - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2003
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00484644 , version 1 (18-05-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00484644 , version 1

Citer

C. Durand, Corentin Vallée, C. Dubourdieu, M. Bonvalot, E. Gautier, et al.. Silicate interface formation during the deposition of Y2O3 on Si. Mat. Res. Soc. Symp. Proc, 2003, United States. pp.Vol. 786, E6.15. ⟨hal-00484644⟩
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