Article Dans Une Revue
Journal of Vacuum Science and Technology
Année : 2003
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00477204
Soumis le : mercredi 28 avril 2010-14:07:02
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:34:25
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00477204 , version 1
Citer
X. Detter, R. Palla, I. Thomas-Boutherin, E. Pargon, G. Cunge, et al.. Impact of chemistry on profile control of resist masked silicon gates etched in high density halogen-based plasmas. Journal of Vacuum Science and Technology, 2003, B21, pp.5. ⟨hal-00477204⟩
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