Orientation control of LaNiO3 thin films by RF magnetron sputtering with different oxygen partial pressure - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Crystal Growth Année : 2009

Orientation control of LaNiO3 thin films by RF magnetron sputtering with different oxygen partial pressure

L.H. Yang
  • Fonction : Auteur
G.S. Wang
  • Fonction : Auteur
C.L. Mao
  • Fonction : Auteur
Y.Y. Zhang
  • Fonction : Auteur
R.H. Liang
  • Fonction : Auteur
Denis Remiens
X.L. Dong
  • Fonction : Auteur

Dates et versions

hal-00473732 , version 1 (16-04-2010)

Identifiants

Citer

L.H. Yang, G.S. Wang, C.L. Mao, Y.Y. Zhang, R.H. Liang, et al.. Orientation control of LaNiO3 thin films by RF magnetron sputtering with different oxygen partial pressure. Journal of Crystal Growth, 2009, 311, pp.4241-4246. ⟨10.1016/j.jcrysgro.2009.05.025⟩. ⟨hal-00473732⟩
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